Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://elib.bspu.by/handle/doc/9230
Название: Распределение углерода в кремнии при ионной имплантации
Авторы: Гуманский, Г. А.
Ташлыков, Игорь Серафимович
Ключевые слова: БГПУ
кремний
углерод
ионная имплантация
Дата публикации: 1978
Серия/номер: Электронная техника. Сер. Микроэлектроника;вып. 5(77), c. 65–71
Краткий осмотр (реферат): Приводится анализ пространственного распределения углерода, внедренного в кремний методом ионно-лучевого легирования, а также сведения об изменениях профилей пространственного распределения углерода в кремнии при термообработке и о глубинном распределении атомов матрицы (кремния) в имплантированном слое. Исследование выполнено неразрушающим методом – методом обратного рассеяния ускоренных до энергии 1,4 мэВ ионов гелия.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): http://elib.bspu.by/handle/doc/9230
Располагается в коллекциях:Научные публикации физико-математического факультета

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
6-27-Эл_техн-1978-5(77)-(65-71).pdf790,3 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.