Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://elib.bspu.by/handle/doc/31609| Название: | Влияние облучения ионами Хе+ на диффузионные процессы в кремнии при ионно-ассистированном осаждении покрытий |
| Авторы: | Михалкович, Олег Михайлович Ташлыков, Игорь Серафимович |
| Ключевые слова: | БГПУ кремний ионно-ассистированное осаждение покрытий облучение ионами Хе+ диффузионные процессы при нанесении покрытий |
| Дата публикации: | 2010 |
| Издатель: | БГУ, Минск |
| Серия/номер: | Сборник научных трудов IV Международной научной конференции «Материалы и структуры современной электроники». Минск, 23–24 сентября 2010 г.;с. 175–178 |
| Краткий осмотр (реферат): | Обсуждаются результаты изучения композиционного состава, диффузионных процессов в Si, модифицированном ионно-ассистированным нанесением Ti, Со покрытий в условиях предварительного облучения ионами ксенона и необлученного. |
| URI (Унифицированный идентификатор ресурса): | http://elib.bspu.by/handle/doc/31609 |
| Располагается в коллекциях: | Научные публикации физико-математического факультета |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 3-МССЭ-2010-175-МОМ.pdf | 797,03 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.