Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://elib.bspu.by/handle/doc/27601| Название: | Stresses in thin polycrystalline silicon films |
| Авторы: | Колешко, В. М. Белицкий, В. Ф. Кирюшин, И. В. |
| Ключевые слова: | механические напряжения тонкие пленки поликремний релаксация |
| Дата публикации: | 1988 |
| Серия/номер: | Thin Solid Films;162 |
| Краткий осмотр (реферат): | Изучаются механические напряжения в тонких пленках поликристаллического кремния, полученного химическим осаждением при низком давлении. С помощью диаграммы механизмов деформации рассмотрены способы релаксации напряжений |
| URI (Унифицированный идентификатор ресурса): | http://elib.bspu.by/handle/doc/27601 |
| Располагается в коллекциях: | Научные публикации физико-математического факультета |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 2.pdf | 842,61 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.