Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://elib.bspu.by/handle/doc/27601Полная запись метаданных
| Поле DC | Значение | Язык |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Колешко, В. М. | - |
| dc.contributor.author | Белицкий, В. Ф. | - |
| dc.contributor.author | Кирюшин, И. В. | - |
| dc.date.accessioned | 2017-10-09T10:41:10Z | - |
| dc.date.available | 2017-10-09T10:41:10Z | - |
| dc.date.issued | 1988 | - |
| dc.identifier.uri | http://elib.bspu.by/handle/doc/27601 | - |
| dc.description.abstract | Изучаются механические напряжения в тонких пленках поликристаллического кремния, полученного химическим осаждением при низком давлении. С помощью диаграммы механизмов деформации рассмотрены способы релаксации напряжений | ru_RU |
| dc.language.iso | en | ru_RU |
| dc.relation.ispartofseries | Thin Solid Films;162 | - |
| dc.subject | механические напряжения | ru_RU |
| dc.subject | тонкие пленки | ru_RU |
| dc.subject | поликремний | ru_RU |
| dc.subject | релаксация | ru_RU |
| dc.title | Stresses in thin polycrystalline silicon films | ru_RU |
| dc.type | Article | ru_RU |
| Располагается в коллекциях: | Научные публикации физико-математического факультета | |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 2.pdf | 842,61 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.