Состав и морфология покрытий Ti, W, осажденных на кремний при ионном ассистировании

Abstract

С использованием методов РОР, ПЭМ, ПЭД, растровой электронной и сканирующей зондовой микроскопии установлены состав и структура металлических (Ti, W) покрытий, осажденных на (111)Si в условиях ионного (Ti+, W+) ассистирования. Обнаружено, что осажденные Ti покрытия на подложке (111)Si имеют слой силицидов (TiSi, TiSi2) и слой, содержащий карбиды и оксиды (TiC, TiO2). При осаждении W покрытия на подложке (111)Si формируется слой, содержащий области скопления силицидов (W3Si, W5Si3, WSi2) и оксида WO2. Модифицирование (111)Si осаждением металлических покрытий в условиях ионного ассистирования приводит также к аморфизации поверхностного слоя кремниевой подложки. Толщина покрытия увеличивается с уменьшением ускоряющего напряжения для ассистирующих ионов Ti+, W+ от 15 кВ до 5 кВ.