Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://elib.bspu.by/handle/doc/27602| Название: | Mechanical stresses in low pressure chemically vapour deposited silicon films |
| Авторы: | Колешко, В. М. Белицкий, В. Ф. Кирюшин, И. В. |
| Ключевые слова: | механические напряжения тонкие пленки кремний кристаллизация |
| Дата публикации: | 1988 |
| Серия/номер: | Thin Solid Films;165 |
| Краткий осмотр (реферат): | Рассматриваются механические напряжения и кристаллическая структура тонких пленок кремния, полученных химическим осаждением при низком давлении из моносилана |
| URI (Унифицированный идентификатор ресурса): | http://elib.bspu.by/handle/doc/27602 |
| Располагается в коллекциях: | Научные публикации физико-математического факультета |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 3.pdf | 856,07 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.