Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://elib.bspu.by/handle/doc/27602
Название: Mechanical stresses in low pressure chemically vapour deposited silicon films
Авторы: Колешко, В.М.
Белицкий, В.Ф.
Кирюшин, И.В.
Ключевые слова: механические напряжения
тонкие пленки
кремний
кристаллизация
Дата публикации: 1988
Серия/номер: Thin Solid Films;165
Краткий осмотр (реферат): Рассматриваются механические напряжения и кристаллическая структура тонких пленок кремния, полученных химическим осаждением при низком давлении из моносилана
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): http://elib.bspu.by/handle/doc/27602
Располагается в коллекциях:Научные публикации физико-математического факультета

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
3.pdf856,07 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.