Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://elib.bspu.by/handle/doc/9210
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorТашлыков, Игорь Серафимович-
dc.date.accessioned2016-01-21T09:51:12Z-
dc.date.available2016-01-21T09:51:12Z-
dc.date.issued1988-
dc.identifier.urihttp://elib.bspu.by/handle/doc/9210-
dc.description.abstractПредставленные в работе результаты исследования дефектообразования в GaAs, имплантированном ионами с М1 от 27 до 65 и E от 60 до 110 кэВ, показывают, что, варьируя плотностью выделяемой в упругих процессах энергии ионов, можно управлять концентрацией остаточных нарушений в арсениде галлия.ru_RU
dc.language.isootherru_RU
dc.relation.ispartofseriesДоклады АН БССР;т. XXII, № 4, с. 317–319-
dc.subjectБГПУru_RU
dc.subjectарсенид галлияru_RU
dc.subjectимплантация ионовru_RU
dc.subjectдефектообразованиеru_RU
dc.titleПовреждение GaAs при имплантации ионов с разной энергиейru_RU
dc.typeArticleru_RU
Располагается в коллекциях:Научные публикации физико-математического факультета

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
6-7-Докл_АН наук-1988-4(317-319).pdf641,1 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.