Изучение ядерно-физическими методами металлосодержащих (Ti, Со)-покрытий, осажденных методом ионного ассистирования на кремний

Abstract

Методами резерфордовского обратного рассеяния, резонансной ядерной реакции, масс-спектрометрии ионизованных нейтральных атомов и компьютерного моделирования исследованы композиционный состав и распределение элементов по глубине в Ti/Si и Co/Si структурах, полученных ионно-ассистированным осаждением при облучении собственными ионами. Установлено, что сформированные покрытия содержат атомы осаждаемого металла (2–5 ат.%), водорода (11–20 ат.%), углерода (25–50 ат.%), кислорода (20–30 ат.%) и материала подложки (~10 ат.%). Элементы Н, С, О частично находятся в покрытиях в химически несвязанном состоянии.