Влияние материала подложки на топографию и смачиваемость тонких пленок CuLnxGai-XSe2

Abstract

Цель исследования – установить зависимость равновесного краевого угла смачивания (РКУС) от свойств поверхности. Приводятся результаты изучения топографии поверхности тонких пленок CIGS, полученных осаждением слоев Cu-Ln-Ga с последующим отжигом в парах Se на подложках из стекла, кремния и нержавеющей стали. Установлено, что РКУС зависит от шероховатости пленок, при этом увеличение шероховатости приводит к росту гидрофобности поверхности.