КЛЮЧЕВЫЕ ФАКТОРЫ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ПРИ ФОРМИРОВАНИИ ГРАНУЛИРОВАННЫХ ПЛЕНОК СИСТЕМЫ NiF

Abstract

В работе представлены результаты исследования влияния основных технологических параметров на химический состав объекта исследований. В качестве объекта исследований рассматриваются пленки системы NiFe (высоконикелевый пермаллой) с номинальным соотношением 80 ат.% Ni и 20 ат.% Fe c отклонением не более 2 ат.% от заданного состава. Рассмотрено влияние таких параметров, как температура (Т) и pH электролита, плотность тока (DC) на химический состав и морфологию поверхности синтезированных пленок. Установлены оптимальные диапазоны параметров для синтеза пленок системы NiFe с заданным соотношением (80 ат.% Ni и 20 ат.% Fe c отклонением не более 2 ат.% от заданного состава), соответствующие Т = 30-35 °С, pH = 2,3-2,4 и DC = 23-27 мА/см2. The paper presents the results of studying the impact of basic technological parameters on chemical content of research object. As a research object we consider films of NiFe system (highly-nickel permalloy) with nominal correlation 80 at.% Ni and 20 at.% Fe with minimal deflection 2 at.% from the specified composition. It considers the impact of such parameters as temperature (T) and pH of electrolyte, density of current (DC) on the chemical content and morphology of surface of synthesized films. It establishes the optimal ranges of parameters for synthesis of films of NiFe system with the specified composition (80 at.% Ni and 20 at.% Fe with minimal deflection 2 at.% from the specified composition) which correspond to T = 30-35 °С, pH = 2,3-2,4 and DC = 23-27 mА/cm2.