Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://elib.bspu.by/handle/doc/31086Полная запись метаданных
| Поле DC | Значение | Язык |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Tashlykov, I. S. | - |
| dc.contributor.author | Zhukowski, Pawel | - |
| dc.contributor.author | Mikhalkovich, Oleg | - |
| dc.contributor.author | Ermakov, Yuri | - |
| dc.contributor.author | Chernysh, Vladimir | - |
| dc.date.accessioned | 2018-02-23T07:16:51Z | - |
| dc.date.available | 2018-02-23T07:16:51Z | - |
| dc.date.issued | 2010 | - |
| dc.identifier.uri | http://elib.bspu.by/handle/doc/31086 | - |
| dc.description.abstract | Composition of Co films/Si substrate systems prepared by means of self-ion assisted deposition and accompanying silicon damage. | ru_RU |
| dc.language.iso | en | ru_RU |
| dc.relation.ispartofseries | Przegląd elektrotechniczny (Electrical Review);r. 86, nr 7, pp. 122–124 | - |
| dc.subject | БГПУ | ru_RU |
| dc.subject | Co/Si structures | ru_RU |
| dc.subject | composition | ru_RU |
| dc.subject | damage | ru_RU |
| dc.subject | topography | ru_RU |
| dc.title | Composition of Co films/Si substrate systems prepared by means of self-ion assisted deposition and accompanying silicon damage | ru_RU |
| dc.type | Article | ru_RU |
| Располагается в коллекциях: | Научные публикации физико-математического факультета | |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 2-Przeglad elektrotecniczny-2010-86-7-МОМ.pdf | 498,99 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.