Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://elib.bspu.by/handle/doc/15947
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorКирюшин, И. В.-
dc.date.accessioned2016-10-22T15:07:23Z-
dc.date.available2016-10-22T15:07:23Z-
dc.date.issued1989-
dc.identifier.urihttp://elib.bspu.by/handle/doc/15947-
dc.description.abstractВ связи с этим целью диссертационной работы является исследование механических напряжений и их релаксации в полупроводниковых структурах с тонкими пленками широкого класса материалов, используемых в микроэлектронике, в том числе при токе высокой плотности, и разработка рекомендаций по практическому использованию полученных результатов.ru_RU
dc.language.isootherru_RU
dc.publisherАН БССРru_RU
dc.subjectавторефератru_RU
dc.subjectДМД конденсатовru_RU
dc.subjectэлектромиграцияru_RU
dc.subjectмногослойные структурыru_RU
dc.titleМЕХАНИЧЕСКИЕ НАПРЯЖЕНИЯ И ИХ РЕЛАКСАЦИЯ В ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СТРУКТУРАХ С ТОНКИМИ ПЛЕНКАМИru_RU
dc.typeOtherru_RU
Располагается в коллекциях:Научные публикации физико-математического факультета

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
Кирюшин И.В..pdf618,52 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.