Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://elib.bspu.by/handle/doc/12696
Название: Взаимопроникновение элементов подложки и тонкой пленки, осаждаемой в условиях ионного ассистирования
Авторы: Ташлыков, Игорь Серафимович
Бобрович, О.Г.
Вишняков, В.М.
Картер, Дж.
Ключевые слова: БГПУ
тонкая пленка
ионное ассистирование
саморадиация
Дата публикации: 1999
Издатель: Физика и химия обработки материалов. № 6
Серия/номер: с. 42–46
Краткий осмотр (реферат): Для установления положения границы раздела при изучении взаимопроникновения элементов подложки и тонкой пленки Ti или Со, получаемой методом ионно-ассистированного нанесения покрытий в условиях саморадиации (ИАНПУС), выполнены эксперименты с маркерными слоями ксенона, предварительно имплантированного в кремниевые образцы с энергией 40 кэВ дозами от 1*10^14 до 9*10^14 см^(–2). Энергия ассистирующих ионов Ti+ и Со+ составляла 7 кэВ. Полученные образцы исследовались методами резерфордовского обратного рассеяния (POP) ионов гелия с энергией 2 МэВ и компьютерного моделирования спектров рассеяния с использованием программы RUMP. Анализ спектров POP позволил обнаружить встречные потоки элементов матрицы в покрытие.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): http://elib.bspu.by/handle/doc/12696
Располагается в коллекциях:Научные публикации физико-математического факультета

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
ФиХОМ-1999-6-ТИС.pdf787,78 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.