Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://elib.bspu.by/handle/doc/12651
Название: A model of oxide layer growth on Ag+ and Pt+ ion implanted nickel anode in aqueous alkaline solution
Авторы: Tashlykov, I. S.
Ключевые слова: БГПУ
oxide growth
nickel
ion implantation
RBS
Дата публикации: 1997
Издатель: Elsevier
Серия/номер: Thin Solid Films;307, p. 106–109
Краткий осмотр (реферат): This work investigates nickel oxide films growth on nickel implanted with ions of the noble metals Ag and Pt. Polycrystalline and single crystal samples of Ni were implanted with high fluences (1x10^19–1x10^21 m^(–2) of 9–50 keV ions. Galvanostatic and potentiostatic polarization techniques were applied to monitor the electrochemical efficiencies of formation of NiXO1–X films in aqueous KOH solution (30%) at 353 K. The growth rates, thickness and compositional profiles of oxidised nickel layers were examined by means of RBS. It was found that the anodic oxide film consists of Ni(OH)2XH2O (X1). Anodic oxidation of nickel occurs due to out-diffusion of Ni atoms through the hydroxide layer. Implanted Ag penetrates partly into the anodic oxide whereas platinum is completely buried beneath the oxide film.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): http://elib.bspu.by/handle/doc/12651
Располагается в коллекциях:Научные публикации физико-математического факультета

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
Thin Solid Films-1997-307-ТИС.pdf727,83 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.