Изучение границы раздела фаз в структуре Ti – Si с применением Хе маркера

dc.contributor.authorБобрович, Олег Георгиевич
dc.contributor.authorТашлыков, Игорь Серафимович
dc.contributor.authorГлухатаренко, Т. И.
dc.date.accessioned2015-11-09T10:23:29Z
dc.date.available2015-11-09T10:23:29Z
dc.date.issued2005
dc.description.abstractРазработана новая методика введения маркера в подложку предварительной ионной имплантацией ксенона для определения границы раздела фаз покрытие – подложка. Данная методика в сочетании с резерфордовским обратным рассеянием ионов гелия позволила установить реальную границу, точность которой определяется страгглингом пробега (±5,7 нм) ионов ксенона в кремнии, между металлсодержащим покрытием и кремниевой подложкой и выявить процессы взаимопроникновения элементов покрытия вглубь подложки и встречной диффузии элементов подложки в покрытие.ru_RU
dc.identifier.urihttp://elib.bspu.by/handle/doc/7384
dc.language.isootherru_RU
dc.publisherБГТУ, Минскru_RU
dc.relation.ispartofseriesТруды Белорусского государственного технологического университета. Сер. VI. Физико-математические науки и информатика;вып. VIII, с. 90–92
dc.subjectБГПУru_RU
dc.subjectионно-ассистированное нанесение покрытийru_RU
dc.subjectметод ИАНПУСru_RU
dc.subjectмаркер ксенонru_RU
dc.subjectпокрытие Ti – Siru_RU
dc.titleИзучение границы раздела фаз в структуре Ti – Si с применением Хе маркераru_RU
dc.typeArticleru_RU

Files

Original bundle

Now showing 1 - 1 of 1
Loading...
Thumbnail Image
Name:
Труды_БГТУ.pdf
Size:
1.96 MB
Format:
Adobe Portable Document Format

License bundle

Now showing 1 - 1 of 1
Loading...
Thumbnail Image
Name:
license.txt
Size:
105 B
Format:
Item-specific license agreed upon to submission
Description: